国产69精品久久久久,美女被吸奶,亚洲精品无码专区久久久

集成電路應(yīng)用雜志簡(jiǎn)介

集成電路應(yīng)用雜志創(chuàng)刊于1984年，辦刊以來(lái)，融指導(dǎo)性、實(shí)用性、知識(shí)性于一體，發(fā)行周期為：月刊，經(jīng)過(guò)雜志社調(diào)整，不斷提高了刊物的整體質(zhì)量，在行業(yè)內(nèi)有一定的影響。

集成電路應(yīng)用投稿須知
預(yù)計(jì)審稿時(shí)間：1個(gè)月內(nèi)

(一)應(yīng)盡量簡(jiǎn)潔、準(zhǔn)確，一般不超過(guò)20字。

(二)參考文獻(xiàn)附于正文之后，所列文獻(xiàn)必須是文中提及的，與正文相對(duì)應(yīng)的。

(三)文章關(guān)鍵要素，需有英文摘要。

(四)來(lái)稿須為作者本人原創(chuàng)，且未公開發(fā)表，稿件內(nèi)容要求文字精煉、層次清晰、觀點(diǎn)鮮明。來(lái)稿確保不涉及保密信息、署名無(wú)爭(zhēng)議，因文字、引注、圖片等引發(fā)的觀點(diǎn)或版權(quán)問(wèn)題，皆由作者本人承擔(dān)。

(五)借喻詞一般需用“”號(hào)；課題名用“”號(hào)，不用“《》”。

集成電路應(yīng)用發(fā)表范例

28 nm鍺硅工藝極微小顆粒缺陷監(jiān)控方法與改善措施研究

作者：龍吟; 范榮偉; 羅興華
LDD后熱處理工藝對(duì)28 nm PMOSFET短溝道效應(yīng)的影響

作者：朱巧智; 劉巍; 李潤(rùn)領(lǐng)
40 nm CMOS工藝平臺(tái)多叉指NMOS器件設(shè)計(jì)與截止頻率提升

作者：王全; 劉林林; 馮悅怡
一種通過(guò)優(yōu)化熱處理?xiàng)l件提升CIS器件性能的方法

作者：王艷生; 焦爽; 秋沉沉; 徐炯
金屬硅化物阻擋層刻蝕對(duì)一次性編程單元數(shù)據(jù)保持性能的影響

作者：黃慶豐
射頻器件在片測(cè)試結(jié)構(gòu)與去嵌入方法

作者：王全; 劉林林; 馮悅怡
多腔體密封集成電路的顆粒碰撞噪聲檢測(cè)PIND研究

作者：李秋楓
基于圖像分析的CD-SEM顯微視覺(jué)清晰度檢測(cè)技術(shù)研究

作者：姜國(guó)偉; 田寶; 章屠靈
一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造業(yè)的支持向量機(jī)SVM檢測(cè)方法

作者：王艷生; 俞微; 魏崢?lè)f
CTP觸控模組表面貼裝SMT工藝研究

作者：黃貴松; 鄧雄; 崔衛(wèi)星

集成電路應(yīng)用數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

被引次數(shù)統(tǒng)計(jì)

影響因子統(tǒng)計(jì)

名詞解釋：

被引次數(shù)：指該刊被當(dāng)參考文獻(xiàn)的引用次數(shù)，以及被下載次數(shù)。

影響因子：指該刊在某年被全部源刊物引證該刊前兩年發(fā)表論文的次數(shù)，與該刊前兩年所發(fā)表的全部源論文數(shù)之比。

主要參考文獻(xiàn)期刊分析：

主要引證文獻(xiàn)期刊分析：

集成電路應(yīng)用同類期刊推薦

免責(zé)聲明

若用戶需要出版服務(wù)，請(qǐng)聯(lián)系出版商，地址：上海市宜山路810號(hào)中電貝嶺大廈17層，郵編：200233。

日日夜夜撸啊撸,欧美韩国日本,日本人配种xxxx视频,在线免播放器高清观看

集成電路應(yīng)用雜志

Applications of IC

集成電路應(yīng)用雜志簡(jiǎn)介

集成電路應(yīng)用投稿須知
預(yù)計(jì)審稿時(shí)間：1個(gè)月內(nèi)

集成電路應(yīng)用發(fā)表范例

28 nm鍺硅工藝極微小顆粒缺陷監(jiān)控方法與改善措施研究

LDD后熱處理工藝對(duì)28 nm PMOSFET短溝道效應(yīng)的影響

40 nm CMOS工藝平臺(tái)多叉指NMOS器件設(shè)計(jì)與截止頻率提升

一種通過(guò)優(yōu)化熱處理?xiàng)l件提升CIS器件性能的方法

金屬硅化物阻擋層刻蝕對(duì)一次性編程單元數(shù)據(jù)保持性能的影響

射頻器件在片測(cè)試結(jié)構(gòu)與去嵌入方法

多腔體密封集成電路的顆粒碰撞噪聲檢測(cè)PIND研究

基于圖像分析的CD-SEM顯微視覺(jué)清晰度檢測(cè)技術(shù)研究

一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造業(yè)的支持向量機(jī)SVM檢測(cè)方法

CTP觸控模組表面貼裝SMT工藝研究

集成電路應(yīng)用數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

被引次數(shù)統(tǒng)計(jì)

影響因子統(tǒng)計(jì)

主要參考文獻(xiàn)期刊分析：

主要引證文獻(xiàn)期刊分析：

熱門問(wèn)題

集成電路應(yīng)用同類期刊推薦

免責(zé)聲明

日日夜夜撸啊撸,欧美韩国日本,日本人配种xxxx视频,在线免播放器高清观看

集成電路應(yīng)用雜志

Applications of IC

集成電路應(yīng)用雜志簡(jiǎn)介

集成電路應(yīng)用投稿須知 預(yù)計(jì)審稿時(shí)間：1個(gè)月內(nèi)

集成電路應(yīng)用發(fā)表范例

28 nm鍺硅工藝極微小顆粒缺陷監(jiān)控方法與改善措施研究

LDD后熱處理工藝對(duì)28 nm PMOSFET短溝道效應(yīng)的影響

40 nm CMOS工藝平臺(tái)多叉指NMOS器件設(shè)計(jì)與截止頻率提升

一種通過(guò)優(yōu)化熱處理?xiàng)l件提升CIS器件性能的方法

金屬硅化物阻擋層刻蝕對(duì)一次性編程單元數(shù)據(jù)保持性能的影響

射頻器件在片測(cè)試結(jié)構(gòu)與去嵌入方法

多腔體密封集成電路的顆粒碰撞噪聲檢測(cè)PIND研究

基于圖像分析的CD-SEM顯微視覺(jué)清晰度檢測(cè)技術(shù)研究

一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造業(yè)的支持向量機(jī)SVM檢測(cè)方法

CTP觸控模組表面貼裝SMT工藝研究

集成電路應(yīng)用數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

被引次數(shù)統(tǒng)計(jì)

影響因子統(tǒng)計(jì)

主要參考文獻(xiàn)期刊分析：

主要引證文獻(xiàn)期刊分析：

熱門問(wèn)題

集成電路應(yīng)用同類期刊推薦

免責(zé)聲明

集成電路應(yīng)用投稿須知
預(yù)計(jì)審稿時(shí)間：1個(gè)月內(nèi)